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On-line version ISSN 0718-0764

Inf. tecnol. vol.24 no.5 La Serena  2013

http://dx.doi.org/10.4067/S0718-07642013000500010 

 

Química y Aplicaciones

 

Preparación de Sistemas Óxido de Titanio/Óxido de Silicio (TiO2/SiO2) mediante el Método Solvotérmico para Aplicaciones en Fotocatálisis

Preparation of Titanium Oxide/Silicon Oxide (TiO2/SiO2) systems through the solvothermal method for applications in photocatalysis

 

Laila Galeano(1), José A. Navío(2), Gloria M. Restrepo(1) y Juan M. Marín(1)

(1)Universidad de Antioquia, Grupo Procesos Fisicoquímicos Aplicados, Ingeniería Química,Facultad de Ingeniería, Calle 70 No.52-21, Medellín-Colombia (e-mail: jmmarin@udea.edu.co).

(2) Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMSE). Centro Mixto CSIC-Universidad de Sevilla, Américo Vespucio, 49, 41092 Sevilla-España (e-mail: navio@us.es).


Resumen

Sistemas Óxido de Titanio/Óxido de Silicio (TiO2/SiO2) fueron obtenidos por anclaje de TiO2 en SiO2. El fotocatalizador TiO2 se obtuvo por alcohólisis del TiCl4 con 2-propanol y posterior cristalización a presión autógena a 200 °C, excluyendo etapas de calcinación a altas temperaturas. Se emplearon diferentes relaciones SiO2/TiCl4 para determinar su influencia en la estabilidad, propiedades y fotoactividad de los sistemas TiO2/SiO2. La actividad fotocatalítica fue evaluada por la fotodegradación de metanol en fase gaseosa. El TiO2 cristalizó como fase anatasa o como una mezcla rutilo/anatasa, dependiendo por la relación SiO2/TiCl4 inicial. Los resultados muestran que se producen materiales compuestos con alta cristalinidad del TiO2. Se encontró también que hay una fuerte relación entre la actividad fotocatalítica con las propiedades fisicoquímicas y de estas con las composiciones iniciales de síntesis.

Palabras clave: sistemas TiO2/SiO2, fotocatálisis, método solvotérmico, materiales compuestos.


Abstract

Titanium Oxide/Silicon Oxide (TiO2/SiO2) systems were obtained by anchoring TiO2 in SiO2. The TiO2 photocatalyst was obtained by alcoholysis of TiCl4 with 2-propanol and subsequent crystallization under autogenous pressure at 200 °C, excluding calcination steps at high temperatures. SiO2/TiCl4 at different ratios were used to determine their influence on stability properties and photoactivity of TiO2/SiO2 systems. The photocatalytic activity was evaluated by the photodegradation of methanol in gaseous phase. The TiO2 did crystallize as anatase phase or as a mixture rutile/anatase, depending on the initial SiO2/TiCl4 ratio. The results showed that composite materials with high crystalinity of TiO2 are produced. It was also observed that there is a strong relationship between the photocatalytic activity and physicochemical properties and of these with the initial compositions used for the synthesis.

Keywords: TiO2/SiO2 systems, photocatalysis, solvothermal method, composite materials.



INTRODUCCIÓN

Los óxidos mixtos de titanio y silicio son materiales de especial interés debido a sus propiedades físicas, resistencia química y variados usos tecnológicos tales como vidrios con muy baja expansión térmica (M. Andrianainarivelo et al., 1996), catalizadores y soportes de catalizadores (Marín et al., 2008; Bellardita et al., 2010; Bahadur et al., 2012), películas con índices de refracción deseados (Zhao et al., 2004), actividad fotocatalítica (Chun et al., 2001, Dong et al., 2012) y celdas solares (Nguyen et al., 2007; Kumar et al, 2012), como consecuencia de una adecuada dispersión y estabilización del fotocatalizador en la matriz de sílice. Las propiedades de este tipo de mezcla de óxidos dependen fuertemente de la composición química, homogeneidad y textura, así como del método de preparación, entre los cuales se cuentan la mezcla física en estado sólido, co-precipitación (Ren et al., 2013), hidrólisis (Hu et al., 2012; Cetinkaya et al., 2013), método hidrotérmico (Wu et al., 2009; Balachandaran et al., 2010) y el proceso sol-gel (Nilchi et al., 2011; Zhong et al., 2012). Este último método se presenta como una ruta muy efectiva, sin embargo incluye habitualmente etapas posteriores de calcinación que además de elevar los costos de síntesis cambian propiedades de los materiales, especialmente las superficiales. El estudio de los sistemas TiO2/SiO2 se está realizando con particular énfasis en aplicaciones fotocatalíticas debido a las propiedades de estabilidad térmica (Beyers et al., 2009), altas áreas superficiales, estabilidad de cargas que presentan estos compositos así como la efecto adsorbente que aporta el SiO2 al proporcionar mejores sitios de adsorción en la vecindad de TiO2 durante la fotocatálisis. Una particular aplicación es la configuración de estructuras autolimpiables basadas en la acción fotocatalítica del TiO2 y las propiedades que aporta el SiO2 al composito aunadas al aumento de transparencia óptica en aplicaciones sobre sistemas vítreos (Pinho y Mosquera, 2013; Pinho et al., 2013).

El dióxido de titanio es comúnmente usado en la fotocatálisis ambiental para la oxidación de compuestos orgánicos volátiles en corrientes de aire (Deveau et al., 2007; Lasek et al., 2013) o compuestos orgánicos en sistemas acuosos (Valencia et al., 2012; Kusic et al., 2013) debido a su alta estabilidad, actividad fotocatalítica, capacidad para la oxidación avanzada y bajo costo. La actividad de un fotocatalizador está influenciada por el área superficial disponible, propia o aportada por otros materiales como el SiO2, la cual posibilita y potencia fenómenos como la adsorción y reacciones catalíticas, y además por la eficiencia en la absorción de fotones, la cual es definida por el tamaño de sus partículas primarias. Cuando el tamaño de la partícula semiconductora decrece a magnitudes nanométricas, las proporciones relativas entre la superficie y el seno del material son comparables, el área superficial del material es incrementada y su estructura de bandas de energía se vuelve discreta exhibiendo propiedades ópticas y químicas diferentes a las generales del material (Brus, 1986). La morfología y el tamaño de las partículas y de los agregados pueden afectar las propiedades de la dispersión de la luz (Maira et al., 2000), así como también el grado de penetración del fotón, las propiedades de transporte de los reactivos y productos, y de la actividad fotocatalítica. Para controlar estos fenómenos se proponen métodos como el anclaje del fotocatalizador sobre una matriz como el SiO2, que además incremente el área superficial del sistema.

La relación entre el tamaño de partícula y la actividad del fotocatalizador ha sido reportada en varios estudios (Kongsuebchart et al., 2006), algunas publicaciones muestran que la eficiencia fotocatalítica es incrementada con la disminución del tamaño de partícula hasta un valor óptimo que depende del proceso catalítico específico desarrollado, pero que en general se encuentra entre 7 y 15 nm (Maira et al., 2000; Zhang et al., 1998). No obstante lo anterior, los beneficios de un tamaño de partícula pequeño pueden ser contrarrestados por el incremento de la velocidad de recombinación e-/h+ superficiales (Zhang et al., 1998). Todos estos fenómenos son atribuidos a las propiedades estructurales, electrónicas y superficiales del TiO2, las cuales son directamente afectadas por el método de síntesis, las condiciones de cristalización del fotocatalizador (Zhu et al., 2005) y las interacciones superficiales en el medio de anclaje o dispersión.

En este trabajo se reporta el desarrollo de sistemas de TiO2/SiO2 por métodos alternativos que no requieren la etapa de calcinación a altas temperaturas para lo cual se constituyó una ruta de síntesis alternativa que involucró el método solvotérmico. Se emplearon técnicas como espectroscopia UV-Visible, espectroscopía de infrarrojo, espectroscopía de Fotoelectrones de Rayos X, microscopía electrónica de barrido y análisis térmicos, para caracterizar las propiedades superficiales y ópticas de los materiales desarrollados. La fotoactividad fue evaluada en la degradación de metanol en fase gaseosa, el cual fue seleccionado como molécula modelo debido a que es un típico contaminante en fase gas, pertenece a los compuestos orgánicos volátiles, es representativo de los alcoholes y posee una función alcohol que orienta su adsorción, además está presente en efluentes gaseosos de la industria de la celulosa, pinturas y adhesivos (Bello et al., 1995). Se obtuvieron materiales con alta cristalinidad, propiedades superficiales y actividad, evaluada como fotodegradación de metanol. El procedimiento de síntesis desarrollado fue altamente eficiente. Los resultados muestran la producción de materiales con alta resistencia, funcionalidad y actividad así como una fuerte relación entre la actividad fotocatalítica con las propiedades fisicoquímicas y de estas con las composiciones iniciales de síntesis.

EXPERIMENTACIÓN

Preparación de sistemas TiO2/SiO2

El procedimiento para la preparación de los sistemas TiO2/SiO2 se fundamentó en la síntesis del fotocatalizador TiO2 a partir de tetracloruro de carbono (TiCl4, 99%, Merck) y su anclaje sobre sílice (SiO2, 100%, Merck). Se partió de una suspensión de SiO2 en 2-propanol (99.8%, Merck) donde se agregó el TiCl4 en 2-propanol, usando diversas relaciones SiO2 y TiCl4 como se muestra en la Tabla 1; esta etapa se desarrolló lentamente durante 2 horas bajo agitación continua y manteniendo todo el sistema a temperaturas entre 0 °C y 5 ºC. Todas las preparaciones incluyeron 0.35 mol de 2-propanol, el cual fue divido en partes iguales para la preparación de la suspensión de SiO2 y la adición del TiCl4. Terminado este proceso, la suspensión obtenida se trasvasó a reactores acero-teflón y el sistema fue sometido a un tratamiento térmico a 200 ºC durante dos horas; donde se produjo la cristalización del TiO2. Finalmente el sólido obtenido se lavó hasta que los cloruros residuales no dieron señal al AgNO3 en las aguas de filtrado. Posteriormente el sólido se secó a 100 ºC durante 1 hora. El protocolo de síntesis se ilustra en la Fig. 1.

Tabla 1: Programación de sistemas TiO2/SiO2

Fig. 1: Esquema de síntesis de los sistemas TiO2/SiO2

Caracterización y evaluación de la fotoactividad de los materiales desarrollados

Las propiedades fisicoquímicas de los materiales se determinaron empleando diversas técnicas de caracterización. La composición de fase cristalina se estimó por difracción de rayos X (DRX), la cual fue realizada en un difractómetro Rigaku Miniflex con radiación Cu Kα y 2θ desde 3° hasta 60°. La morfología y el mapeo superficial fue obtenida por microscopía electrónica de barrido (SEM) y análisis por energía dispersiva de rayos X (EDX) realizada en un equipo JEOL, JSM 540 equipado con detector particular de energías dispersivas de rayos X (Link ISIS Pentafex, Oxford). Espectroscopía de Fotoelectrones de Rayos X (XPS) fue realizada en un espectrómetro Leybold Heraeus LHS-10 trabajando a un paso de energía de 50 eV. La cámara principal del espectrómetro, con presión de trabajo inferior a 2x10-9 Torr, está equipada con un analizador de electrones hemisférico EA-200 MCD con fuente de rayos X dual. Como fuente de excitación se empleó la línea Kα del Aluminio (hν = 1486,6 eV) a 120 W y 30 mA. Como energía de referencia interna para todos los experimentos se usó la señal del C 1s (284.6 eV). Previo al análisis, las muestras fueron desgasificadas en la precámara del instrumento a 150 °C, hasta una presión inferior a 2x10-8 Torr para eliminar el agua quimisorbida en la superficie. Análisis térmicos gravimétricos y diferenciales (ATG/ATD) fueron realizados en un analizador LINSEIS, STA Platinum Series. Espectroscopía de infrarrojo de los sistemas fue obtenida en un espectrofotómetro SHIMADZU IR Prestige-21 equipado con accesorio de reflectancia total atenuada (FTIR – ATR). Análisis UV-Visible fueron realizados en un equipo UV-vis spectrometer PERKIN ELMER, Lambda 9 equipado con accesorio de reflectancia difusa (UV-vis/DR). Todos los espectros fueron realizados en el modo de reflectancia difusa y transformados a la magnitud proporcional del coeficiente de extinción a través de la función Kubelka–Munk function, F(R∞). Los Band-gaps fueron calculados empleando la función Kubelka–Munk de acuerdo con el método propuesto por Tandom and Gupta (1970). El área superficial fue determinada por adsorción de nitrógeno (método BET, equipo analizador QUANTACHROME, Nova 3200) y la cuantificación de dióxido de titanio por métodos químicos (Chun et al., 2001).

El montaje experimental utilizado para la degradación fotocatalítica consistió de una etapa donde se prepara el efluente gaseoso para lo cual el metanol se diluye en aire hasta una concentración de 350 ppmv (293 K y 1 atm de presión), en una corriente de 62,5 mL min-1. El reactor fotocatalítico consistió de un cilindro (di = 4,2 cm, h = 2,5 cm), fabricado en acero inoxidable, provisto de tuberías de 1/8" que permiten la entrada y salida del efluente. 25 mg de cada sistema TiO2/SiO2 se ubicaron en el plano central del reactor, el cual recibe la radiación emitida por una lámpara PHILIPS HPK 125 W, que entra al reactor a través de un disco en vidrio borosilicato. Se empleó un filtro CORNING 0.52 que transmite radiaciones superiores a 340 nm y un baño de agua para absorber los rayos infrarrojos, Fig. 2. La radiación que alcanzó las muestras es de 18 mW/cm2, la cual fue determinada empleando un fotómetro Solar Light Co. PMA 2200. El sistema de análisis fue conformado por un cromatógrafo de gases con detector de ionización de llama (CG-FID) (Varian Star 3400) con el que se verificó el avance de la reacción y un segundo cromatógrafo con detector de conductividad térmica (GC 121 MB matrix) con el cual se determinó la mineralización a CO2.

Fig. 2: esquema del sistema de reacción

RESULTADOS Y DISCUSIÓN

Caracterización de los sistemas TiO2/SiO2

El TiO2 en los sistemas TiO2/SiO2 cristalizó como partículas en fase anatasa o una mezcla de rutilo/anatasa, presentando mayor cristalinidad para materiales sintetizados con  RSiO2/TiCl4  inferiores a 1, a partir de la cual el material se presentó más amorfo, Fig. 3.

Fig. 3: Diagramas de Difracción de rayos X para los sistemas TiO2/SiO2

La relación rutilo/anatasa aumentó en los materiales hasta un valor de 0,54, proporcionalmente con el incremento de la RSiO2/TiCl4  hasta una RSiO2/TiCl4  = 0,55, valor a partir del cual la relación rutilo/anatasa disminuyó predominando la fase anatasa. Los materiales con RSiO2/TiCl4  > 1 presentaron un aumento en la relación entre las fases nuevamente, no obstante estos materiales presentaron menor cristalinidad de TiO2, este comportamiento se representa en la Fig. 4.

Fig. 4: Variación de la relación rutilo/anatasa en el TiO2 con el cambio en la R SiO2 / TiCl4

El tamaño medio de microdominios de TiO2 (L) fue determinado empleando la ecuación de Debye Scherrer (Asilturk et al., 2009). Los materiales conformados a partir de suspensiones con RSiO2/TiCl4  <1 presentaron tamaños variables entre 85 y 115 nm y para aquellos procedentes de suspensiones con RSiO2/TiCl4  >1 el tamaño disminuyó proporcionalmente con el aumento en RSiO2/TiCl4  . Este comportamiento, presentado en la Fig. 5, permite presumir que cuando la cantidad molar de SiO2 supera la del precursor de titanio, relacionadas con 0,35 mol de solvente, retrasa la formación del fotocatalizador debido principalmente a efectos físicos como consecuencia de la adsorción del solvente en la matriz de sílice y la disminución del medio de difusión de especies así como la disponibilidad del precursor para la alcohólisis del TiCl4.

Fig. 5: Tamaño medio de los cristales de TiO2 con el cambio en la R SiO2 / TiCl4  

La densificación del material al pasar de la metafase anatasa a la fase más estable rutilo presenta cambios estructurales y morfológicos detectables en una menor presencia de especies hidroxilos de la superficie (TiOH libres y enlazados, observados por análisis FTIR-ATR, no mostrados) y una menor área superficial específica, la cual disminuyó desde un valor de 140 m2/g hasta valores de 73 m2/g en síntesis con RSiO2/TiCl4  ≥ 3, Fig. 6. Este último valor coincide con el área superficial de la SiO2 empleada, determinada luego de ser sometida al proceso descrito sin presencia del precursor TiCl4, la cual también es muy similar al área superficial del SiO2 sin ningún tipo de tratamiento de 79 m2/g. La pérdida de área superficial es atribuida a la rutilización y a la diferencia de composición de los compositos TiO2/SiO2 así como a la modificación de la superficie del SiO2.

Fig. 6: Variación de la superficie específica para diferentes composiciones de R SiO2 / TiCl4

Análisis térmicos gravimétricos mostraron pérdidas de peso generales entre el 10 y 12,5 %. Esta pérdida de peso es menor en aquellos materiales con mayor relación rutilo/anatasa, como consecuencia posible de una menor oclusión del solvente para pérdidas por debajo de 100ºC y una condensación de radicales hidroxilos fuertemente unidos a la superficie del material sintetizado. Los análisis térmicos diferenciales presentaron señales endotérmicas centradas alrededor de 79 °C atribuidas a la remoción de especies fisisorbidas o que permanecieron ocluidas luego de la síntesis, específicamente el solvente empleado 2-propanol y H2O. Materiales con relación rutilo/anatasa menor a 0.5 presentaron señales exotérmicas entre 300 °C y 400 °C asociadas a la cristalización en anatasa del material amorfo remanente, mientras que la transformación de anatasa a rutilo se presenta gradualmente a diferentes temperaturas mayores a 500 °C, donde la temperatura es menor para los materiales con relación rutilo/anatasa mayor a 0.5 y en consecuencia estos materiales pueden alcanzar la fase rutilo a temperaturas más bajas debido a la rutilización parcial lograda durante el proceso de síntesis desarrollado. Se observaron pequeñas pérdidas de masa a temperaturas mayores a 600ºC las cuales podrían ser atribuidas a la degradación térmica de las últimas moléculas atrapadas en la estructura tridimensional del óxido.

Análisis por espectroscopia de fotoelectrones de rayos X fueron realizados a los materiales con  de 0,11 y 0,33. El primero de estos materiales presenta TiO2 en fase anatasa y el segundo una mezcla rutilo/anatasa de 0,4. Espectros XPS de los niveles Ti(2p) y O(1s) son recogidos en la Fig. 7.

El material preparado con RSiO2/TiCl4 = 0,11 presenta los espectros Ti(2s) y O(1s) típicos de TiO2 en coordinación octaedral mientras aquel obtenido de RSiO2/TiCl4 = 0,33 muestra un pequeño corrimiento de la energía de enlace del Ti(2p3/2) hacia la posición típica de TiO2 tetragonales (Towë y Benndorf, 2000); este ligero cambio en la estructura también es evidenciado en análisis preliminares por espectroscopia de absorción de rayos X donde el pico A, de acuerdo a la nomenclatura de Pólux (Poumellec et al., 1987) se presenta con mayor intensidad.

Fig. 7: Espectros XPS para los materiales RSiO2/TiCl4  = 0,11 en línea punteada y RSiO2/TiCl4  = 0,33 en línea continua. a) niveles Ti(2p); b) nivel O(1s)

En la Tabla 2 se muestran los porcentajes atómicos de los elementos encontrados en los análisis de XPS, luego de ser normalizados al eliminar los porcentajes del carbono, atribuidos a posibles contaminaciones y al 2-propanol residual que acompaña los sólidos sintetizados. Estas composiciones concuerdan con los análisis de cuantificación de TiO2 realizados por métodos químicos (Chun et al., 2001), los cuales revelan que el porcentaje de TiO2 en los materiales disminuye de un valor máximo de 72,5% determinado para los materiales provenientes de dispersiones con RSiO2/TiCl4  = 0,33 hasta valores cercanos al 20% para los materiales sintetizados con mayor cantidad de SiO2 en la preparación inicial (Fig. 8); no obstante lo anterior, materiales con  RSiO2/TiCl4  < 0,33 presentaron una tendencia inversa que pudo ser consecuencia a que el SiO2 como lugar de anclaje del TiO2 cumple la función de aglomerador de clusters facilitando la formación del TiO2 (Kriventsov et al., 2001).

Tabla 2: Valores de la composición superficial para los material con RSiO2/TiCl4  = 0,11, y RSiO2/TiCl4  = 0,33, determinados por XPS

Fig. 8: Porcentaje de TiO2 en los sistemas TiO2/SiO2 con la variación en la R SiO2 / TiCl4

Análisis por microscopia electrónica de barrido mostraron apariencias similares para los materiales obtenidos con diferentes proporciones entre los precursores SiO2 y TiCl4; en general estuvieron conformados por grandes aglomerados de hasta 100 µm, alrededor de los cuales se depositaron otros más pequeños. Los aglomerados de mayor tamaño se presentaron con mayor regularidad en materiales sintetizados con RSiO2/TiCl4  bajos, exhibiendo una morfología bastante similar, con caras planas y superficies rugosas y limpias (Fig. 9a). Los demás materiales presentaron mayor proporción de pequeños aglomerados (10 µm – 20 µm) y pequeñas esferas de TiO2 unidos a los grandes aglomerados (Fig. 9b). Las esferas de TiO2 se presentan distribuidas aleatoriamente sobre la superficie de los diferentes aglomerados o en sistemas aislados; su tamaño aunque muy homogéneo (alrededor de 4 µm) presenta pequeños cambios para materiales con mayor RSiO2/TiCl4  , donde se reducen ligeramente (Fig. 9c).

Fig. 9: Imágenes SEM de los sistemas TiO2/SiO2. a) R SiO2 / TiCl4 = 0,11; b) R SiO2 / TiCl4 = 0,55; c) R SiO2 / TIOT = 3,00

La identificación de las esferas se realizó por análisis de energías dispersivas los cuales permitieron observar que los aglomerados estaban formados por ambas clases de óxidos en toda su estructura, donde las esferas y gran parte del material superficial corresponden al TiO2 (Fig. 10). Los materiales que se encuentran dispersos separados de los mayores aglomerados corresponden en mayor proporción al dióxido de titanio. De acuerdo con estos análisis, se puede interpretar que aquellos materiales que se observan más blancos en las micrografías SEM corresponden al TiO2 y el material un poco más oscuro a la sílice.

Por los análisis anteriormente discutidos y los análisis SEM, materiales con RSiO2/TiCl4  < 0,33 podrían presentar una cantidad de sílice insuficiente para el depósito del TiO2 mientras que a RSiO2/TiCl4  > 0,33 la sílice podría competir con el TiO2 en la conformación del composito y de la superficie.

Fig. 10: Mapa elemental del material R SiO2 / TiCl4 = 0,55 determinado por análisis de energías dispersivas de Rayos X: a) Imagen SEM; b) Ti Ka1; c) O ka1; d) Si Ka1

La absorción de radiación de los sistemas TiO2/SiO2 fue similar a la que presenta el TiO2 P 25, aunque en la región del espectro entre 350 nm y 420 nm la mayoría de los materiales desarrollados en este estudio presentan mayor absorción, la cual aumenta para los materiales con mayores RSiO2/TiCl4  , Fig. 11. Los valores correspondientes a la energía de la banda prohibida, Eg, aumentan en aquellos materiales que fueron sintetizados de dispersiones con mayores RSiO2/TiCl4  y que presentaron mayor cristalinidad en su estructura; el menor valor 3,10 eV, es asociado a la presencia de TiO2 rutilo. Los materiales con menor cristalinidad de TiO2 no presentaron tendencias en los Eg, los cuales se presentan aleatoriamente entre valores de 3,15 eV y 3,45 eV.

Fig. 11 : Espectros de reflectancia difusa para los sistemas TiO2/SiO2 con la variación en la R SiO2 / TiCl4

Actividad fotocatalítica para la degradación de metanol

La actividad fotocatalítica de los sistemas TiO2/SiO2 presentó eficiencias muy similares para aquellos materiales que mostraron mayor cristalinidad, no se aprecian diferencias importantes aunque podría precisarse que materiales con RSiO2/TiCl4  cercanos a 0,5 alcanzaron las mayores degradaciones como puede ser observado en la Fig. 12a. Los materiales con mayores cantidades de sílice, donde no se obtuvo completa cristalinidad del TiO2 presentaron menores eficiencias en la degradación de metanol, disminuyendo con el aumento de RSiO2/TiCl4  .

Fig. 12: Fotodegradación de metanol durante 60 minutos empleando los sistemas TiO2/SiO2 en función de: a) RSiO2/TiCl4    y b) la composición molar de TiCl4 y SiO2

La influencia de los precursores SiO2 y TiO2 en la eficiencia fotocatalítica de los materiales sintetizados se presenta la Fig. Fig. 12b, se puede apreciar que las mayores degradaciones fueron obtenidas con materiales provenientes de síntesis con menores cantidades de SiO2, no obstante la relación entre ambos precursores presenta máximos a determinadas cargas de TiCl4 para cada uno de las cantidades de SiO2 dispersadas, siendo menores a menores cargas de sílice, es así que para una carga de sílice de 0,027 mol la cantidad de TiCl4 óptima es de 0,15 moles mientras que para un aporte de sílice de 0,081 la cantidad de TiCl4 debe ser incrementada a 0,20 moles. Los porcentajes de mineralización, medidos como formación de CO2, fueron bajos y se obtuvieron únicamente con materiales de mayor cristalinidad en fase anatasa y con relación rutilo/anatasa menor a 0,25, el promedio de estos porcentajes de mineralización fue 4 %, indicando una selectividad del 20% hacia el CO2. Materiales con menor grado de cristalización, con altas RSiO2/TiCl4  , no presentaron mineralización sostenible y cuantificable luego de alcanzar el estado estable, sólo durante las primeras etapas de la degradación fotocatalítica se determinó la formación de CO2 en la mayoría de los materiales. Otro subproducto detectado en pequeñas cantidades y que no fue sostenible durante todo el tiempo de la fotorreacción fue el metilo formiato; no se evidenció la formación de ácido fórmico y  formaldehido, los cuales son subproductos de la fotodegradación de metanol detectados en otros estudios (Granda et al., 2012; Halasi et al., 2012), atribuida principalmente a los sistemas empleados para el seguimiento de la reacción y a que se generan en cantidades muy pequeñas que son rápidamente fotodegradadas.

El material más eficiente en la fotodegradación del metanol fue sintetizado a partir de suspensiones con RSiO2/TiCl4  = 0,33 y en general los sintetizados a partir de suspensiones con RSiO2/TiCl4  cercanas a este valor, sin embargo estos presentan relaciones rutilo/anatasa altas las cuales parece que no conducen a la mineralización posiblemente debido a que la fase rutilo es menos fotoactiva y a que los porcentajes de sílice se hacen cada vez mayores, como es el caso de  los materiales sintetizados de suspensiones con RSiO2/TiCl4  > 1 donde la fase SiO2 es la que predomina y aunque presentan actividad fotocatalítica, su superficie es menos hidroxilada y tienen menor área superficial.

CONCLUSIONES

El procedimiento desarrollado para la preparación de sistemas nanométricos de TiO2/SiO2 basado en la alcohólisis y polimerización combinada con procesos de cristalización, en método solvotermal, a presión autógena a baja temperatura (473 K), resultó ser muy eficiente. Los sistemas TiO2/SiO2 más activos presentaron alta cristalinidad de TiO2, gran área superficial y absorciones de radiación UV similares a los TiO2 comerciales, haciéndolos potencialmente útiles en aplicaciones fotocatalíticas.

Los materiales formados de suspensiones con RSiO2/TiCl4  menores a 0,33 se presentan como los más adecuados para las aplicaciones fotocatalíticas ya que presentan fotoactividad, mayor hidroxilación de su superficie y área superficial, mayores incorporaciones de TiO2 con más alta cristalinidad en fase anatasa.

AGRADECIMIENTOS

Los autores agradecen a COLCIENCIAS y la Universidad de Antioquia por la financiación de la investigación. También al Instituto de Ciencia de los Materiales de Sevilla, CSIC-Universidad de Sevilla, al Ministerio de Ciencia e Innovación de España, y al Laboratorio "Photocatalyse, Catalyse et Environnement" de l’UMR "IFoS " - CNRS, Ecole Central Lyon, Lyon – France.

 

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Recibido Mar. 13, 2013; Aceptado Abr. 18, 2013; Versión final recibida Jun. 17, 2013.

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